快速退火爐RTP-Table-6

快速退火爐RTP-Table-6產品介紹

一、簡介
1.1 概要
RTP-150RL是在保護氣氛下的桌面式快速退火系統，以紅外可見光加熱單片 Wafer或樣品，工藝時間短，控溫精度高，適用最大6英寸晶片。相對于傳統擴散爐退火系統和其他RTP系統，其獨特的腔體設計、先進的溫度控制技術和獨有的RL900軟件控制系統，確保了極好的熱均勻性。
 
 
1.2 產品特點

•  紅外鹵素燈管加熱，冷卻采用風冷

•  燈管功率PID控溫，可精準控制溫度升溫，保證良好的重現性與溫度均勻性

•  采用平行氣路進氣方式，氣體的進入口設置在Wafer表面，避免退火過程中冷點產生，保證產品良好的溫度均勻性

•  大氣與真空處理方式均可選擇，進氣前氣體凈化處理

•  標配兩組工藝氣體，最多可擴展至6組工藝氣體

•  可測單晶片樣品的最大尺寸為6英寸（150×150mm）

•  采用爐門安全溫度開啟保護、溫控器開啟權限保護以及設備急停安全保護三重安全措施，全方位保障儀器使用安全

 
1.3 RTP行業應用

•  氧化物、氮化物生長

•  硅化物合金退火

•  砷化鎵工藝

•  歐姆接觸快速合金

•  氧化回流

•  其他快速熱處理工藝

•   離子注入激活

行業領域：

•   芯片制造 生物醫學 納米技術

•   MEMS LEDs 太陽能電池

•   化合物產業 ：GaAs，GaN，GaP，

•   GaInP，InP，SiC

•   光電產業：平面光波導，激光，VCSELs

 
 
 
二、技術規格
2.1參數

 
 
 
 快速退火爐RTP-150RL可制作的產品
 

 
 
 
 
 
  快速退火爐RTP-150RL生產線一覽
 

技術規格
2.1參數